半導體工廠是用于制造半導體器件的生產(chǎn)設(shè)施。半導體器件是現(xiàn)代電子設(shè)備的關(guān)鍵組成部分，如計算機、手機、智能家居設(shè)備等。那么半導體凈化車間建設(shè)及環(huán)境技術(shù)有哪些要求?今天就隨合潔科技電子凈化工程公司一起來了解下吧!

　　“半導體工廠”都生產(chǎn)什么?

　　半導體工廠通常被稱為“晶圓廠"，因為它們制造的半導體器件是通過在晶圓上面制造芯片來實現(xiàn)的。晶圓是一種基于硅材料的圓片，通過在其表面上沉積、刻蝕、光刻等過程來制造芯片。

　　隨著半導體制程技術(shù)的飛速發(fā)展，芯片線寬已經(jīng)進入納米級，相應的產(chǎn)品對半導體產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境的要求也越來越高，因此半導體凈化工程潔凈室內(nèi)系統(tǒng)的運行狀態(tài)對硅芯片品質(zhì)和通過率的影響舉足輕重，凈化潔凈室的潔凈等級也必須有一個公認的標準，比如以Class10為例，意謂在單位立方英寸的潔凈室空間內(nèi)，平均只有粒徑0.5微米以上的粉塵10粒。所以Class后頭數(shù)字越小，潔凈度越佳，當然其造價也越昂貴。

　　半導體凈化車間潔凈度等級標準及要求

　　半導體特性決定其制造過程必須有潔凈度要求，環(huán)境中雜質(zhì)對半導體的特性有著改變或破壞其性能的作用，而雜質(zhì)各式各樣，如金屬離子會破壞半導體器件的導電性能，塵埃粒子破壞半導體器件的表面結(jié)構(gòu)等，所以在半導體器件生產(chǎn)過程中對什么都必須嚴格控制。

　　潔凈室耗能為一般系統(tǒng)之5~10倍，在國內(nèi)自產(chǎn)能源匱乏且面臨能源消耗日益嚴重的情況下，如何提升無塵室系統(tǒng)的節(jié)能技術(shù)，以提升生產(chǎn)力與競爭力，是我們必須面對的課題。另外對潔凈廠房的潔凈度進行定期的人工巡檢存在人力資源浪費的缺點，為了克服人工檢測耗時費力的缺點，我們可以采用一些企業(yè)研發(fā)生產(chǎn)的CW-RPC系列多通道遠程遙測激光塵埃粒子計數(shù)器及遠程監(jiān)控系統(tǒng)對潔凈廠房進行7*24實時準確的精準監(jiān)測，能夠極大的提升我們的工作效率，節(jié)省人力成本。

　　半導體車間的基本要求

　　1、內(nèi)部要保持大于一大氣壓的環(huán)境，以確保粉塵只出不進。所以需要大型鼓風機，將經(jīng)濾網(wǎng)的空氣源源不絕地打入潔凈室中。

　　2、為保持溫度與濕度的恒定，大型空調(diào)設(shè)備須搭配于前述之鼓風加壓系統(tǒng)中。換言之，鼓風機加壓多久，冷氣空調(diào)也開多久。

　　3、所有氣流方向均由上往下為主，盡量減少突兀之室內(nèi)空間設(shè)計或機臺擺放調(diào)配，使粉塵在潔凈室內(nèi)回旋停滯的機會與時間減至最低程度。

　　4、所有建材均以不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì)為主。

　　5、所有人事物進出，都必須經(jīng)過空氣吹浴 (air shower) 的程序，將表面粉塵先行去除。

　　6、人體及衣物的毛屑是一項主要粉塵來源，為此務必嚴格要求進出使用人員穿戴無塵衣，除了眼睛部位外，均需與外界隔絕接觸 (在次微米制程技術(shù)的工廠內(nèi)，工作人員幾乎穿戴得像航天員一樣。) 當然，化妝是在禁絕之內(nèi)，鉛筆等也禁止使用。

　　7、除了空氣外，水的使用也只能限用去離子水 (DI water, de-ionized water)。一則防止水中粉粒污染晶圓，二則防止水中重金屬離子，如鉀、鈉離子污染金氧半 (MOS) 晶體管結(jié)構(gòu)之帶電載子信道 (carrier channel)，影響半導體組件的工作特性。去離子水以電阻率 (resistively) 來定義好壞，一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格;為此需動用多重離子交換樹脂、RO逆滲透、與UV紫外線殺菌等重重關(guān)卡，才能放行使用。由于去離子水是最佳的溶劑與清潔劑，其在半導體工業(yè)之使用量極為驚人!

　　8、潔凈室所有用得到的氣源，包括吹干晶圓及機臺空壓所需要的，都得使用氮氣 (98%)，吹干晶圓的氮氣甚至要求99.8%以上的高純氮!